【資料圖】
1、RIE,全稱是Reactive Ion Etching,反應(yīng)離子刻蝕,一種微電子干法腐蝕工藝。
2、是干蝕刻的一種,這種蝕刻的原理是,當(dāng)在平板電極之間施加10~100MHZ的高頻電壓(RF,radio frequency)時(shí)會(huì)產(chǎn)生數(shù)百微米厚的離子層(ion sheath),在其中放入試樣,離子高速撞擊試樣而完成化學(xué)反應(yīng)蝕刻,此即為RIE(Reactive Ion Etching)。
本文應(yīng)離子刻蝕的基本詳情介紹就講解完畢,希望對(duì)大家有所幫助。
關(guān)鍵詞: