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美國對我國半導(dǎo)體行業(yè)的限制，又在變本加厲了。

6月30日，荷蘭政府發(fā)布《先進(jìn)半導(dǎo)體制造設(shè)備法規(guī)》，加碼了對我國光刻機(jī)出口的管制。

荷蘭光刻機(jī)巨頭ASML也發(fā)布公告，稱最先進(jìn)的浸沒式DUV光刻機(jī)出口需要獲得荷蘭政府認(rèn)可。

這里可能會有人疑問：

不是早在2年多以前，荷蘭光刻機(jī)就被禁止向我國出售了嗎？怎么又來了一輪禁售？

這里需要指出的是，當(dāng)初荷蘭受美國逼迫對中國禁售光刻機(jī)，指的是能生產(chǎn)14nm以下最先進(jìn)制程芯片的EUV光刻機(jī)。

但如今，適用于14nm以上的中低端芯片生產(chǎn)，部分先進(jìn)的浸潤式DUV光刻機(jī)也遭受了限制。

換句話說，只限制荷蘭對華出口高端EUV光刻機(jī)還不算完，美國還要把低端光刻機(jī)領(lǐng)域也徹底堵死，全方位遏制我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展。

面對美國對我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展的圍追堵截，我國芯片行業(yè)想要迎頭趕上，乃至于實(shí)現(xiàn)彎道超車，必須要堅(jiān)持自主研發(fā)，走出一條新路。

荷蘭被迫限制對華出口光刻機(jī)

對荷蘭的ASML公司而言，從自身的利益出發(fā)，其實(shí)完全沒有限制對華出口光刻機(jī)的理由。

2019年，中國對于光刻機(jī)的需求已經(jīng)占到了全球市場的將近40%。

再加上這幾年國內(nèi)對光刻機(jī)的需求繼續(xù)增長，有專業(yè)人士預(yù)計，到今年年底我國光刻機(jī)需求占全球市場的占比將達(dá)到50%。

對于ASML這樣一家?guī)缀跻呀?jīng)形成壟斷的公司來說，顯然不可能愿意放棄占據(jù)自身業(yè)務(wù)量一半的龐大市場。

實(shí)際上，2022年10月美國發(fā)布對華最強(qiáng)的半導(dǎo)體技術(shù)管制，荷蘭最初選擇了拒不跟隨。

荷蘭外貿(mào)大臣施賴納馬赫爾表示：

“荷蘭不會一比一照搬美國（對華出口）的措施。”

ASML的首席執(zhí)行官彼得·溫寧克更是公開質(zhì)疑美國的雙標(biāo)做法：
“美國的芯片制造商能夠?qū)χ袊N售最先進(jìn)的芯片，可ASML卻只能對中國銷售較舊的芯片制造設(shè)備，這似乎有些矛盾。”

但可惜的是，即便ASML是全球唯一的光刻機(jī)巨頭，但生產(chǎn)光刻機(jī)的關(guān)鍵零部件本土化率并沒有那么高，以EUV光刻機(jī)為例，只有大約45%的零部件在荷蘭本土生產(chǎn)，其余55%都要依靠美國及其盟友日德等國的進(jìn)口。

因此，如果荷蘭不答應(yīng)限制對華光刻機(jī)的出口，就會被美國“卡脖子”，所以不同意也沒辦法。

盡管ASML能夠生產(chǎn)全球最頂尖的光刻機(jī)設(shè)備，中國又有全球占比最大的市場，但由于美國從中作梗，二者無法達(dá)成交易，實(shí)現(xiàn)雙贏。

中國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展如何？

首先需要承認(rèn)的一點(diǎn)是，我國光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)展距離全球頂尖，乃至于實(shí)現(xiàn)自給自足，還有很大一段距離。

比如光刻機(jī)制造的第一個難點(diǎn)，也就是機(jī)器的光源問題。

現(xiàn)在全球只有美國的Cymer掌握著成熟的制造技術(shù)，就連ASML也需要向其采購預(yù)訂。

目前我國首臺EUV光源工程樣機(jī)已經(jīng)正式落地，但盡管已經(jīng)研發(fā)成功，也只是剛剛為量產(chǎn)打下基礎(chǔ)，距離此項(xiàng)技術(shù)真正成熟，真正完成配套光刻機(jī)的生產(chǎn)，還有一定的差距。

再以光刻膠為例，光刻膠是光刻機(jī)生產(chǎn)、芯片生產(chǎn)的核心原材料之一，主要被用作抗腐蝕涂層材料。

目前在高端光刻膠領(lǐng)域，日本遙遙領(lǐng)先，足足占據(jù)全球市場的75%，掌握了高端光刻膠市場的絕對話語權(quán)。

而我國目前光刻膠發(fā)展還處于起步階段，就拿ArF光刻膠來說，這種光刻膠被用于制作14nm到130nm的光刻機(jī)、芯片上，我國ArF光刻膠的國產(chǎn)自給率只有1%，還需要向日本專門進(jìn)口。

因此，雖然我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展迅猛，在光刻機(jī)制造研發(fā)領(lǐng)域一直在發(fā)力，但這種真正的高精尖科技領(lǐng)域，想要實(shí)現(xiàn)突圍難度相當(dāng)之大。

尤其美國為限制我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)發(fā)展無所不用其極，除了技術(shù)、關(guān)鍵設(shè)備之外，甚至在材料領(lǐng)域也是圍追堵截，進(jìn)一步加大了我國光刻機(jī)研發(fā)制造的難度。

光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)距離突破，未來還有比較長的一段路要走。

中國芯片自主要走出新路

其實(shí)與我國在新能源汽車領(lǐng)域的發(fā)展路徑類似，國產(chǎn)光刻機(jī)想要真正突破西方限制，更重要的是針對未來方向的布局，實(shí)現(xiàn)彎道超車。

以汽車產(chǎn)業(yè)為例，汽車制造業(yè)被譽(yù)為工業(yè)上的明珠，是可以作為國家經(jīng)濟(jì)支柱的產(chǎn)業(yè)之一。

但傳統(tǒng)燃油車時代，由于我國工業(yè)起步落后，失去了先發(fā)優(yōu)勢，導(dǎo)致外國汽車對于國產(chǎn)車形成了碾壓局面。

消費(fèi)者寧可花費(fèi)翻倍乃至于幾倍的溢價去購買合資車，也不愿意購買相對低端的國產(chǎn)車，國產(chǎn)車企也因?yàn)榧夹g(shù)落后、利潤微薄，只能勉強(qiáng)維持經(jīng)營。

不過，隨著國家加大對于新能源汽車產(chǎn)業(yè)的扶持力度，國產(chǎn)新能源汽車產(chǎn)業(yè)蓬勃發(fā)展，一眾國產(chǎn)車企迎來了新生。

去年，我國新能源汽車產(chǎn)銷已經(jīng)連續(xù)8年位列全球第一，動力電池裝機(jī)量前10企業(yè)中，我國占據(jù)6席，真正實(shí)現(xiàn)了汽車工業(yè)上的彎道超車。

而如今光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)面臨著類似的局面，我國不僅缺乏先發(fā)優(yōu)勢，而且面臨著西方國家的層層限制。

且生產(chǎn)一臺高端EUV光刻機(jī)，需要超過10萬個零部件，全球5000家以上企業(yè)合作，其中的技術(shù)研發(fā)難度可想而知。

短時間內(nèi)想要在國內(nèi)建設(shè)一條完備的光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)鏈，絕非易事。

因此，如今除了繼續(xù)在國產(chǎn)光刻機(jī)研發(fā)制造上實(shí)現(xiàn)突破之外，也要基于未來方向進(jìn)行布局，圍繞下一代晶體管的材料、器件與工藝方向進(jìn)行持續(xù)的研發(fā)投入，從而形成反制手段。

想要繞過光刻機(jī)的路徑，就必須不斷地進(jìn)行嘗試，比如我國的超分辨率光刻機(jī)、量子芯片、光子芯片等生產(chǎn)線，都在規(guī)劃過程中，國內(nèi)首條多材料光子芯片產(chǎn)線也即將于今年建成。

總而言之，面對西方國家對我國半導(dǎo)體產(chǎn)業(yè)的封鎖，除了腳踏實(shí)地，繼續(xù)堅(jiān)持在光刻機(jī)研發(fā)制造上的投入之外，也要“仰望星空”，從另一個方向去試探新的出路，針對未來進(jìn)行布局。

寫在最后：

從另一種角度來看，美國限制我國芯片產(chǎn)業(yè)研發(fā)，也并不完全是一件壞事。

這相當(dāng)于直接幫我們斷掉后路，逼著我們一門心思搞自主研發(fā)，盡快實(shí)現(xiàn)光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)的突破。

當(dāng)初ASML總裁曾口出狂言，稱就算中國對著圖紙也造不出光刻機(jī)。

如今中國不斷在光刻機(jī)產(chǎn)業(yè)發(fā)力，且已經(jīng)取得了一定的成績，事實(shí)會證明，中國并不懼怕各種層層加碼的限制，光刻機(jī)國產(chǎn)化只是時間早晚的問題。

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